中国用落后的光刻机，制造出先进的芯片 近年来，光刻机被誉为芯片制造的“生命线”。目前，全球唯一能制造极紫外（EUV）光刻机的公司是荷兰的ASML，几乎形成了垄断。美国掌控了ASML，就等于掌握了全球高端芯片的“钥匙”。因此，美国坚决不允许将最先进的EUV设备出口到中国，甚至连浸润式深紫外（DUV）设备也限制出口，试图遏制中国芯片的突破。 美国的算盘很清楚：没有EUV光刻机，也没有先进的浸润式设备，中国就难以自主生产高端芯片，从而被美国技术卡脖子，依赖进口。美国希望通过这种封锁，保持在芯片产业的领先地位，甚至用芯片作为谈判筹码，谋取更大利益。 令人惊讶的是，中国并没有因此止步。即使使用相对落后的ASML设备，中国的芯片制造水平也取得了突破。华为等企业已推出多款采用先进工艺的手机芯片，至少达到了7nm甚至更高水平。在AI芯片方面，华为的昇腾系列也展现出强劲实力。 不仅如此，国产芯片产业快速崛起：CPU、GPU、AI芯片的自主研发不断推进，国产替代率不断提升，部分已超过40%。紫光展锐、华为麒麟、小米玄戒等企业纷纷发力，减少对进口芯片的依赖。 事实证明，靠“空谈”和“封锁”无法阻挡中国芯片的崛起。中国企业用实际成果证明了自己的实力，打破了美国的封锁。未来，随着国产光刻机的不断突破，谁还能阻挡中国芯片产业的高速发展？有人传言，美国可能会进一步收紧出口限制，但这又能阻挡中国创新的脚步吗？答案似乎已经揭晓。
