最新消息！ 荷兰政府正式宣布： 10月31日有消息称，在美国的持续施压下，荷兰2025年光刻机出口新规已正式落地实施。根据荷兰政府公告，此次管制范围在原有EUV光刻机基础上进一步扩大，NXT:1970i、1980i等具备量产能力的DUV设备均被纳入限制清单，这意味着ASML已无法再向中国出口此类核心制造设备。 需要明确的是，荷兰政府此次实施的并非完全出口禁令，而是将这些设备纳入出口许可审批范围，需逐案审核后方可决定是否放行。荷兰贸易大臣莱内特·克莱弗在公告中强调，此次管制仅覆盖极有限的技术和商品，目的是应对不受控出口带来的安全风险，同时避免不必要地扰乱芯片产业。但从实际影响看，这种审批要求实质上给ASML的对华出口设置了极高门槛。 被纳入限制清单的NXT:1970i、1980i等DUV设备，采用193纳米波长光源，是28纳米、14纳米等成熟制程芯片量产的核心设备，部分型号通过多重曝光技术甚至可尝试7纳米节点的芯片生产。对中国芯片制造企业而言，这两类设备是维持产能、推进技术迭代的关键支撑。2024年中国大陆分步重复光刻机（含DUV等类型）进口金额达8.1亿美元，虽同比减少51.1%，但仍是半导体制造环节的重要进口设备。 这波管制背后，美国的施压痕迹清晰可见。早从2023年9月荷兰首次实施相关管制以来，此次已是第二次修改出口限制措施，且管制范围持续扩大。ASML自身对此也颇为无奈，中国市场是其重要营收来源，2024年来自中国大陆的营收达101.95亿欧元，在总营收中占比高达36.1%。失去稳定的中国订单，不仅直接影响企业营收，其本土供应商如蔡司光学的订单也已出现明显波动。 荷兰政府的决策陷入了明显的矛盾。一方面要维护与美国的盟友关系，另一方面又需顾及本土产业利益。ASML的DUV设备不仅依赖全球供应链，更需要中国市场的反馈来持续迭代技术。中国作为全球最大的半导体消费市场，2024年13类主要半导体设备进口金额已达196.12亿美元，ASML长期在光刻设备领域占据主要份额。管制落地后，国内部分晶圆厂已出现设备调配紧张的情况，中芯国际等企业不得不优先保障核心产线的设备供应。 值得关注的是，外部限制也倒逼了中国自主研发的加速。上海微电子装备（SMEE）已实现28纳米浸没式DUV光刻机的技术突破，其关键部件国产率超85%，2025年已推进到量产测试阶段，首台设备已交付中芯国际进行验证。不过客观来看，国产设备在技术成熟度和产能上仍有差距，短期内尚无法完全替代ASML的同类产品。 全球半导体产业早已形成你中有我的产业链格局，ASML的光刻机生产不仅依赖全球供应链，单台设备中稀土磁体用量就超10公斤，占电机成本30%以上，而中国掌控全球90%以上的稀土加工产能。强行设置技术壁垒，最终可能导致全行业成本上升、发展减速，这恐怕是施压方和执行方都未曾充分考量的后果。 各位读者你们怎么看？欢迎在评论区讨论。
