芯片制造“四大核心装备”中国全突破？我国目前达到世界先进水平的有离子注入机（中核集团研究），光刻机（上海微电子等研究），刻蚀机（中微、北方华创等），薄膜沉积（中微、拓荆，微纳等）。它们是半导体制造不可或缺的“刚需”设备，中国已逐一突破！
特朗普傻眼了，就在他出售武器装备给台湾，中国首次以“武力”威慑美国，中国公开表态
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芯片制造“四大核心装备”中国全突破？我国目前达到世界先进水平的有离子注入机（中核
嘴哥看科技
2026-02-03 15:34:14
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平凡的世界
duv镜头euv镜片最难！我创新的技术：1、在A液体中，滴入高温玻璃液，让玻璃液漂浮（可旋转）或悬浮或下沉（自由或旋转、A液体足够深）；这样可能让接触A液体的玻璃表面足够光滑。2、任何方法制造的光滑镜面，先冷却，后在真空环境下让反射或透光面被激光微秒加热、导致表面几层原子熔化后，用静置与旋转相结合的方法、在冷却后，重复前面熔化冷却步骤，利用表面张力向心力让镜面平整度到达或接近原子级，加上原子级镀膜技术，则镜面能满足高精度需求；冷却可以自然冷却也可以气液冷却。3、单面原子级光滑的玻璃，可切割打磨粗面后背靠背焊合，利用分子扩散均匀接触面，制成双面原子级光滑的镜头或镜片。本人一介草民，没学过镜面处理知识，看见光刻机光学模组久久无法突破，一时技痒，竟然不怕献丑说出所想。