装都不装了，台积电副总带枪投靠，带走数十箱机密资料，直接加入英特尔！ 11月20日消息，中国台湾半导体行业爆出惊人内情。台积电前企业策略发展资深副总经理罗唯仁在7月底退休后，于10月底直接加入英特尔担任研发副总。有台媒披露，他在离职前要求团队密集进行技术简报，并带走数十箱涉及2纳米、A14、A16等先进制程的复制文本与手写资料。 75 岁的罗唯仁绝对算得上台积电的 “元老级人物”，2004 年加入公司后，一路从营运副总经理做到企业策略发展资深副总，21 年间见证并主导了从 45 纳米到 2 纳米的多代制程突破，光是参与和领导的专利就超过 15000 项，其中美国专利就有 1000 项左右，说是台积电的 “技术活字典” 一点不为过。 更关键的是，他全程参与了 EUV 极紫外光刻技术的规模化应用，这可是先进制程量产的核心关键，连台积电内部不少新员工的培训教材核心章节都出自他手。 这样一位深耕核心技术多年的高管，今年 7 月底刚办完退休手续，10 月底就出现在了英特尔的研发团队里，担任研发副总，专门负责先进设备与模组发展，这个岗位直接决定先进工艺能否顺利量产、良率能否提升，恰恰是目前深陷 18A 制程困境的英特尔最急需的。 最引发争议的不是这场 “闪电跳槽”，而是台媒披露的细节：罗唯仁在退休前那段时间，频繁要求下属进行密集的技术简报，还影印了大量涉及 2 纳米、A14、A16 等先进制程的资料，加上他自己的手写笔记，足足装了数十箱被悄悄运离台积电园区。 要知道，这些资料可不是普通文件，里面可能包含 2 纳米 GAA 晶体管结构的关键数据、制程工艺窗口参数、良率提升策略，甚至是未来的研发路线图，业内有人估算，随便一页都可能价值数十亿美元。 更让人疑惑的是，按照半导体行业的惯例，核心研发高管离职都会签署竞业禁止协议，通常要求 18 个月内不能加入竞争对手，但有消息称罗唯仁并没有签署这份约束文件，这也让整个事件更显蹊跷。 事件曝光后，各方回应也耐人寻味。英特尔 CEO 陈立武很快出面否认，称这些都是毫无根据的谣言和猜测，强调公司尊重知识产权；台积电这边则保持了沉默，只是悄悄启动了内部调查，核对资料借阅记录、打印痕迹和下属问询情况，但迟迟没有公开表态。 其实这场风波背后，暴露的是台积电安全管理上的 “双重标准”。这些年台积电为了防止技术外流，对大陆的防范堪称 “铜墙铁壁”：核心研发区要三次虹膜识别，24 小时信号屏蔽，员工电脑拆了 USB 接口，大陆工程师参与交流要提前三个月报备，全程专人陪同，离职赴大陆还要接受 1 年 “技术隔离”。 可面对美籍员工和美国企业，防线却明显松动，罗唯仁本身持有美国国籍，在职期间查阅核心资料无需额外审批，携带纸质文档进出实验室也不用接受例行检查，这种 “选择性设防” 最终让内部出现了漏洞。 不过话说回来，即便这些传闻属实，也不用过分焦虑。半导体产业的核心竞争力从来不是几份文件就能决定的，它需要长期的技术积累、庞大的研发投入和成熟的产业生态。 台积电的技术优势是上万名工程师历经无数次试错才建立起来的，绝非某个人带走一批资料就能复制。 而咱们大陆的半导体产业这些年也在稳步崛起，在光刻机、蚀刻机等关键设备，以及芯片设计、制造等多个环节都取得了突破，形成了自己的产业体系，这种靠自主创新打下的基础，才是最稳固的。 更重要的是，咱们始终坚持公平竞争和知识产权保护，这种大国风范和发展定力，不是靠 “挖人窃密” 就能撼动的。 现在整个事件还处在调查阶段，真相到底是 “谣言” 还是确有其事？罗唯仁带走的资料是否真的涉及核心机密？台积电最终会选择沉默还是起诉？英特尔又能否借此实现制程突破？这场横跨两岸、牵扯中美科技巨头的风波，后续还会有哪些反转？欢迎大家在评论区留下自己的看法。
