国产光刻胶产业链加速崛起，自主替代迎来关键突破 近年来，随着半导体产业自主可控战略的深入推进，光刻胶作为芯片制造的核心材料之一，其国产替代进程备受关注。目前，国内企业在多个细分领域已实现技术突破和规模化布局，产业链协同效应逐步显现。 在高端光刻胶领域，部分企业已成功实现ArF光刻胶的量产，并进入主流晶圆厂的供应链体系，标志着我国在28纳米等先进制程材料方面取得实质性进展。此外，在KrF、I线、G线等成熟制程领域，国产产品已具备较强的市场竞争力，部分品类市占率持续提升，逐步打破国外厂商的长期垄断。 从产业链结构来看，上游原材料环节也逐步实现本土化突破，包括光敏剂、引发剂、单体等关键材料已有多家企业布局，为整个光刻胶产业的健康发展提供了有力支撑。而在下游应用方面，面板、PCB等领域对光刻胶的需求持续旺盛，尤其在AI算力基础设施建设的推动下，相关材料市场空间进一步打开。 从市场情绪来看，光刻胶作为“卡脖子”环节的关键材料，一直受到政策和资本的高度关注，行业热度持续处于高位。随着国内晶圆产能的持续扩张以及供应链安全意识的提升，光刻胶国产化已成为不可逆转的趋势，未来发展潜力巨大。预计在未来几年，具备技术领先优势和产业链协同能力的企业将进一步巩固市场地位，推动国产光刻胶向更先进制程、更广泛应用场景迈进。 中国光刻技术 光刻芯片 中企光刻机 极紫外光刻技术 光刻胶 光刻股 光刻技术革命 半导体光刻胶 股票财经
