重大突破,中国芯片终于站起来了!
浙江大学立大功了!众所周知,要制造7nm以下芯片必须用EUV光刻机,而 EUV光刻机全球只有荷兰 ASML一家能制造,但美国禁止向中国销售。近日,浙江大学另辟蹊径,绕开了 EUV 光刻技术,开发出电子束光刻机。该技术用电子束直接在硅片上进行光刻,无需光刻技术必须使用的光掩膜版,且精度低于1 纳米,超过目前全球尖端的 2 纳米水平。这台 EBL 电子束光刻机,雕刻精度可达 0.6 纳米、线宽 8 纳米,接近世界顶级水平。目前,样机已进入调试阶段,投产后可制作量子芯片。美国越封锁,我们越进步。中国在急需解决的芯片技术领域,终于站起来了,也再次证明了中国的崛起已势不可当。
李宗政
但愿消息是真的!
婆婆 回复 08-15 04:57
可能又是新冠疫苗一样吹牛[捂脸哭]
用户57xxx15
妈的,为什么要公开学校的名字
humy
不想说什么
WEI
功率特别低 俄罗斯就在搞这个