中国半导体设备龙头屹唐半导体起诉了美国竞争对手应用材料窃取机密,并索赔9999万元,此举标志着中美科技战的进一步升级。 屹唐半导体8月13日发布公告称,公司因认为应用材料非法获取并使用了公司的等离子体源及晶圆表面处理相关的核心技术秘密,还在中国境内以申请专利的方式披露了技术秘密,且将这项专利申请权据为己有,因此向北京知识产权法院提起诉讼,诉讼金额为9999万元。 屹唐半导体也提到,应用材料招聘了曾在屹唐半导体全资子公司Mattson Technology, Inc.工作的两名涉案员工,而他们了解关于等离子体的产生和处理方法的核心技术,熟悉和掌握相关设备结构以及技术工艺。在MTI公司任职期间,这两员工均签署了保密协议,对包括涉案技术秘密在内的技术信息承担严格的保密义务。
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